Fabrication and electrical characterization of thin films obtained by the nitridation of InP (100) substrates in a Glow Discharge Source (GDS) are presented and discussed. The electrical parameters of InN/InP Schottky diode such as the saturation current (Is), barrier height (φb), ideality factor (n) and series resistance (Rs) were determined. These parameters were calculated using the current-voltage (I–V) characteristics and are compared with those obtained by an analytical model. This model was used in order to identify the transport phenomena. Semi-log forward I-V, Cheung functions and Norde methods were used in order to determine the series resistance Rs. The measured values of Is, (φb), and n for the studied sample are of 1.33 × 10−4 A cm−2, 0.46 eV and 3.31, respectively.
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Simulation and electrical characterization of InN/InP diodes
B. Hadjadj Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, AlgérieCorrespondencebr80h@yahoo.fr
, Z. Benamara Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, Algérie, N. Zougagh Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, Algérie & B. Akkal Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, Algérie
B. Hadjadj Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, AlgérieCorrespondencebr80h@yahoo.fr
, Z. Benamara Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, Algérie, N. Zougagh Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, Algérie & B. Akkal Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, Algérie
, Z. Benamara Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, Algérie, N. Zougagh Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, Algérie & B. Akkal Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Département d'électronique, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbés, Sidi Bel Abbés, Algérie
Pages 74-81
Published online: 13 May 2016
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